
全自動晶圓化學清洗設(shè)備
自動化半導體晶圓化學清洗設(shè)備SCS-Q012-150mm(50晶圓)是實現混合物(SPM) -HF溶液-過氧化物-氨水溶液(APM) -過氧(yǎng)化物(wù)-鹽溶液(yè)(HPM)交替加工的工藝過程,在化學試劑中對直徑為150mm的半導體晶圓進行清洗。
產品特點
1.適用直徑150mm的晶圓;
2.每個(gè)槽中至少有50片晶圓,放置在2個卡(kǎ)塞中;
3.自動晶圓定位係統;
4.機械手自動操作和運輸係統(tǒng);
5.配備高效微粒空氣過濾器;
6.配置溶液製備係統;
7.控製(zhì)係統:PLC+人機界(jiè)麵。
應用領域
晶圓製造(zào)等
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