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FHD沉積設備
FHD沉積係統設計為在最短的時間內在基底上沉積矽和在基底（dǐ）上沉積（jī）矽酸鹽（二氧化矽），特（tè）別適用於光波導工藝的二氧化矽沉積，薄膜厚度達到25微米以上。
-技術優勢
1.首款自主研發的FHD鍍膜設備 ，TGV鍍銅設備實現國外競品（pǐn）完全（quán）對標 ，產品已進客戶端量產。
2.FHD鍍膜設備（bèi） ，TGV鍍（dù）銅設備為切入口 ，布（bù）局半（bàn）導體光（guāng）量子集成芯片... MORE +
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一代FHD沉積設備
FHD鍍膜設（shè）備 ，TGV鍍（dù）銅（tóng）設備為切入口 ，布局半導體光（guāng）量子集成芯片和先進封（fēng）裝製程中合成石英和光纖（xiān）設（shè）備及產品線，可替代進口設備 MORE +
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