
晶圓水平電鍍設備
水平電鍍技術,它是垂直電鍍法技術(shù)發展的繼續,技術的關鍵(jiàn)就是製造出相適應的、相互配套的水平電鍍係統,能使高分散能力的鍍液,在改進供電(diàn)方式和其它輔助裝置的配合下,顯示出比垂(chuí)直電鍍法更為優異(yì)的功能作用。
(1)適應尺寸範(fàn)圍較寬,無需進行手工裝掛,實現全部自動化作業
(2)在工藝審查中,無需留有裝夾位置,增加(jiā)實用麵積,大大節約原材料(liào)的損耗。
(3)水平電鍍采用全程計算機控製,使基板在相同的(de)條件下,確保每(měi)塊印製電路板的(de)表麵與孔的鍍層的均一性。
(4)電鍍(dù)槽從清理、電鍍液(yè)的添加和更換(huàn),可完全實現(xiàn)自動化作業,不會因為人為的錯(cuò)誤造成管理上的失控問題(tí)。
(1)適應尺寸範(fàn)圍較寬,無需進行手工裝掛,實現全部自動化作業
(2)在工藝審查中,無需留有裝夾位置,增加(jiā)實用麵積,大大節約原材料(liào)的損耗。
(3)水平電鍍采用全程計算機控製,使基板在相同的(de)條件下,確保每(měi)塊印製電路板的(de)表麵與孔的鍍層的均一性。
(4)電鍍(dù)槽從清理、電鍍液(yè)的添加和更換(huàn),可完全實現(xiàn)自動化作業,不會因為人為的錯(cuò)誤造成管理上的失控問題(tí)。
產品特點
-機(jī)型體積小,靈活度高
-水平式電鍍腔體,無交叉感染
-支持單腔體維護,提高設備正常運作時間
- 橡膠密封技術,更佳密封性能
- 陰陽級分(fèn)離技術,更佳鍍液穩定性
- 電鍍液種(zhǒng)類:Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 最多8個電鍍腔體(tǐ):Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 具備預濕腔體和清洗功能
高度均勻性:WiW≤5%,WtW≤5%,RtR≤5%
-水平式電鍍腔體,無交叉感染
-支持單腔體維護,提高設備正常運作時間
- 橡膠密封技術,更佳密封性能
- 陰陽級分(fèn)離技術,更佳鍍液穩定性
- 電鍍液種(zhǒng)類:Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 最多8個電鍍腔體(tǐ):Cu,Ni,Sn/Ag,Au
- 具備預濕腔體和清洗功能
高度均勻性:WiW≤5%,WtW≤5%,RtR≤5%
應用領域
Pillar,Bump,RDL,TSV等工藝
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